供料設(shè)備及涂布系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202220051927.8 申請日 -
公開（公告）號 CN216880179U 公開（公告）日 2022-07-05
申請公布號 CN216880179U 申請公布日 2022-07-05
分類號 B05C11/10（2006.01）I;B01D36/00（2006.01）I 分類 一般噴射或霧化；對表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 王凱;胡錫麗;彭建林 申請（專利權(quán)）人 深圳市曼恩斯特科技股份有限公司
代理機構(gòu) 北京三聚陽光知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 518118廣東省深圳市坪山區(qū)龍?zhí)锝值乐窨由鐓^(qū)第三工業(yè)區(qū)C區(qū)3號廠房101~201
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種供料設(shè)備及涂布系統(tǒng)，其中，供料設(shè)備包括至少一個過濾裝置，過濾裝置包括：動態(tài)過濾組件，其進料端通入漿料，以用于過濾漿料中的雜質(zhì)；除鐵組件，其進料端與動態(tài)過濾組件的出料端連通，以用于濾除漿料中的鐵粒；緩存組件，其進料端與除鐵組件的出料端連通，以用于緩存漿料；涂布過濾組件，其進料端與緩存組件的出料端連通，以用于過濾漿料中的顆粒；以及回流組件，其進料端與涂布過濾組件的出料端連通，其出料端與涂布模頭的進料口連通，其回流端與緩存組件連通。本實用新型提出了一種供料設(shè)備，提高了對漿料的過濾效果，提升了產(chǎn)品質(zhì)量，同時通過設(shè)置雙罐裝置來過濾漿料，極大地提升了涂布系統(tǒng)的生產(chǎn)效率。