一種高光且具備電磁屏蔽功能的AS/PA9T復(fù)合材料及其制備方法
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202010680687.3 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN111978717A | 公開（公告）日 | 2020-11-24 |
| 申請公布號 | CN111978717A | 申請公布日 | 2020-11-24 |
| 分類號 | C08L77/06(2006.01)I | 分類 | 有機高分子化合物；其制備或化學(xué)加工；以其為基料的組合物; |
| 發(fā)明人 | 童光輝;付緒兵;厲勇;王仕新;張羽 | 申請（專利權(quán)）人 | 寧波墨西科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 寧波高新區(qū)永創(chuàng)智誠專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 寧波墨西科技有限公司 |
| 地址 | 315300浙江省寧波市慈溪市慈東濱海區(qū)海豐北路188號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種高光且具備電磁屏蔽功能的AS/PA9T復(fù)合材料及其制備方法，特點是由以下原料及其重量份數(shù)組成：石墨烯0.5?2.5份、碳納米纖維0.5?2.5份、分散劑3份、N?甲基吡咯烷酮100份、對苯二甲酸47.84?49.92份、壬二胺44.16?46.08份和AS純樹脂30份，其制備方法步驟如下：先將石墨烯、碳納米纖維復(fù)配，加入分散劑經(jīng)研磨得納米碳材料復(fù)配體；然后超聲震蕩分散在N?甲基吡咯烷酮中，分別加入對苯二甲酸和壬二胺進行高速攪拌經(jīng)原位聚合反應(yīng)制得復(fù)合材料PA9T；將得到的復(fù)合材料PA9T與AS在高混機中共混得到PC/PA9T復(fù)合材料，優(yōu)點是高光澤度、耐高溫、耐摩擦、抗輻射。?? |
