一種電解池液位控制系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201721718333.3 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN207672150U 公開(kāi)（公告）日 2018-07-31
申請(qǐng)公布號(hào) CN207672150U 申請(qǐng)公布日 2018-07-31
分類號(hào) C25D21/14;C25D21/12;C25D17/00 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 李斌;王洪健;黃賀南;楊曉光;齊建爽 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 江銅華北（天津）銅業(yè)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 天津?yàn)I?？凭曋R(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 丁曉玥
地址 300405 天津市北辰區(qū)大張莊鎮(zhèn)津圍公路1295號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供了一種電解池液位控制系統(tǒng)，靠近上端的控制管的圓周壁上開(kāi)有排液孔，控制管能夠套在電解池內(nèi)的出液管上，控制管的內(nèi)徑大于出液管的外徑，靠近上端的出液管的圓周壁上開(kāi)有出液口，控制管套在出液管上后，控制管的下端與電解池的池底接觸，排液孔的高度高于出液口的高度，排液孔位于電解池內(nèi)部。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、設(shè)計(jì)巧妙，操作簡(jiǎn)便，能夠快速的實(shí)現(xiàn)電解池液位的控制，提高電解池的電解液面，解決了生產(chǎn)中的問(wèn)題。