一種化學(xué)氣相沉積爐的基體支撐裝置及基體旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201820349599.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN208201119U 公開（公告）日 2018-12-07
申請(qǐng)公布號(hào) CN208201119U 申請(qǐng)公布日 2018-12-07
分類號(hào) C23C16/458 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 周玉燕;林培英;黃洪福;朱佰喜 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳市志橙半導(dǎo)體材料股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州市天河廬陽(yáng)專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 胡濟(jì)元
地址 518054 廣東省深圳市南山區(qū)南山街道南山大道康樂(lè)大廈福海閣10F
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開一種化學(xué)氣相沉積爐中的基體支撐裝置，包括支撐架、若干個(gè)沿著圓周方向設(shè)在支撐架上的滾動(dòng)槽以及設(shè)在每個(gè)滾動(dòng)槽中用于支撐基體的滾球，所述支撐架上設(shè)有用于限制基體離心甩出的擋塊。該基體支撐裝置不但可以支撐質(zhì)量大小不同的基體，且支撐處不會(huì)產(chǎn)生無(wú)薄膜的缺口，使得基體表面能均勻地一次沉積到所需的薄膜，既提高了基體的表面質(zhì)量，也降低了成本。本實(shí)用新型還公開一種化學(xué)氣相沉積爐中的基體旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置，包括轉(zhuǎn)盤、驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)盤驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)以及若干個(gè)基體支撐裝置，所述轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動(dòng)中心構(gòu)成公轉(zhuǎn)中心，支撐架與轉(zhuǎn)盤之間的轉(zhuǎn)動(dòng)結(jié)構(gòu)的中心構(gòu)成自轉(zhuǎn)中心；所述轉(zhuǎn)盤上設(shè)有驅(qū)動(dòng)支撐架繞著自轉(zhuǎn)中心轉(zhuǎn)動(dòng)的自轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。