一種氣相沉積爐內氣體懸浮裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201922156987.7 申請日 -
公開(公告)號 CN211079325U 公開(公告)日 2020-07-24
申請公布號 CN211079325U 申請公布日 2020-07-24
分類號 C23C16/455(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 黃洪福;藍圖;袁永紅;雷宏濤 申請(專利權)人 深圳市志橙半導體材料股份有限公司
代理機構 深圳市添源知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 代理人 羅志偉
地址 518000廣東省深圳市寶安區(qū)松崗街道潭頭社區(qū)健倉科技研發(fā)廠區(qū)辦公樓307
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供了一種氣相沉積爐內氣體懸浮裝置,包括平行設置并且旋轉配合的石墨盤和底座,所述底座上設有主進氣孔、第一分氣孔、第二分氣孔、第一傾斜出氣孔和第二傾斜出氣孔,所述第一分氣孔、第二分氣孔分別位于所述主進氣孔的兩側,所述第一分氣孔、第二分氣孔分別與所述主進氣孔交匯連通于同一點。本實用新型的有益效果是:在主進氣孔的同一位置分出第一分氣孔、第二分氣孔,再分別通過第一傾斜出氣孔、第二傾斜出氣孔產(chǎn)生旋轉氣體,推動石墨盤懸浮并轉動,保證了氣體流動阻力一致,有效保證了兩傾斜氣體流量一樣,懸浮效果好,旋轉順暢,可顯著提高薄膜均勻性以及質量,并有效延長裝置的使用周期。??