一種具有手性旋光性質(zhì)的自支持手性納米中空錐陣列薄膜及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201810684093.2 申請日 -
公開（公告）號 CN108754418A 公開（公告）日 2020-02-07
申請公布號 CN108754418A 申請公布日 2020-02-07
分類號 C23C14/02;C23C14/20;C23C14/16;C23C14/24;B82Y40/00 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張剛;王增瑤 申請（專利權(quán)）人 掌知勢（廣州）知識產(chǎn)權(quán)運(yùn)營有限公司
代理機(jī)構(gòu) 長春吉大專利代理有限責(zé)任公司 代理人 劉世純;王恩遠(yuǎn)
地址 130012 吉林省長春市前進(jìn)大街2699號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種具有手性旋光性質(zhì)的自支持手性納米中空錐陣列薄膜及其制備方法，屬于手性材料技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明涉及掩模刻蝕方法、物理氣相沉積方法、膠體微球界面組裝方法以及微納結(jié)構(gòu)液相轉(zhuǎn)移方法。整個過程操作簡便，過程低耗清潔，可控性高。通過結(jié)合膠體刻蝕與可控掠射角沉積技術(shù)，可以制備大面積具有手性旋光性質(zhì)的自支持手性納米中空錐陣列薄膜。其手性信號可以通過調(diào)整陣列的微結(jié)構(gòu)形貌進(jìn)行調(diào)控，其所提供的手性等離子體空腔對手性限域檢測有重要的應(yīng)用價(jià)值。該手性陣列結(jié)構(gòu)的成膜性可使其更容易從原有基底上脫離，從而形成自支持材料，進(jìn)一步通過后續(xù)的轉(zhuǎn)移操作，可制備出諸如柔性手性材料等更具實(shí)用性的材料。