一種電極箔生產用帶有沉淀清理機構的廢水處理裝置
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202122135636.5 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN215427470U | 公開(公告)日 | 2022-01-07 |
| 申請公布號 | CN215427470U | 申請公布日 | 2022-01-07 |
| 分類號 | B01D21/04(2006.01)I;B01D21/24(2006.01)I;B02C4/02(2006.01)I;B02C23/16(2006.01)I | 分類 | 一般的物理或化學的方法或裝置; |
| 發(fā)明人 | 張生;華松山;吳孜延;周杰;楊蘇江 | 申請(專利權)人 | 揚州宏遠電子股份有限公司 |
| 代理機構 | 南京瑞弘專利商標事務所(普通合伙) | 代理人 | 徐激波 |
| 地址 | 225600江蘇省揚州市高郵市經(jīng)濟開發(fā)區(qū)凌波路35號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型公開了一種電極箔生產用帶有沉淀清理機構的廢水處理裝置,涉及電極箔技術領域,包括底板和安裝有兩個定位桿的箱體,兩個所述定位桿的一側外表面活動連接有刮板,所述底板遠離刮板的一側下表面開設有通槽,所述底板靠近通槽的一側下表面活動連接有擋板,所述底板靠近擋板的一側下表面設置有用于安裝排料板的連接板。本實用新型,通過打開電控閥,并將擋板沿著底板移動,使通槽空出,廢水通過沿著通槽率先向外流出,并經(jīng)由排料板排出,將刮板沿著定位桿向通槽的方向移動,實現(xiàn)將箱體底部的淤泥狀污漬集中向通槽處移動,實現(xiàn)對污漬的排出,能夠有效提升對廢水的處理效果,便于對廢水的沉淀物進行清理。 |





