UV燙印膜和UV燙印膜組件
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202021989883.0 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN213534249U | 公開(公告)日 | 2021-06-25 |
| 申請公布號 | CN213534249U | 申請公布日 | 2021-06-25 |
| 分類號 | B41M5/41(2006.01)I;B41M5/42(2006.01)I;B41M5/44(2006.01)I;C09J7/50(2018.01)I;C09J7/22(2018.01)I;C09J7/25(2018.01)I;C09J7/24(2018.01)I | 分類 | 印刷;排版機(jī);打字機(jī);模印機(jī)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 楊紅波;魯琴;徐曉光;羅家強(qiáng) | 申請(專利權(quán))人 | 武漢華工圖像技術(shù)開發(fā)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 陳秋夢 |
| 地址 | 430000湖北省武漢市華工科技園內(nèi) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型涉及防偽信息膜領(lǐng)域,具體而言,涉及一種UV燙印膜和UV燙印膜組件。UV燙印膜包括依次連接的UV信息層、第一色層和鍍層,UV信息層包括設(shè)置全息圖案的全息圖案區(qū)域和設(shè)置光標(biāo)的光標(biāo)區(qū)域,第一色層包括反射區(qū)域和非反射區(qū)域,反射區(qū)域與光標(biāo)區(qū)域?qū)?yīng),非反射區(qū)域與全息圖案區(qū)域?qū)?yīng)。該UV燙印膜具有全息圖案區(qū)域亮度均勻,全息圖案信息復(fù)制完全的特點,并可以良好的保持光標(biāo)區(qū)域處的反射識別功能。 |





