一種基于微透鏡陣列的圖文防偽結構及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811115548.5 申請日 -
公開（公告）號 CN109285439B 公開（公告）日 2021-07-23
申請公布號 CN109285439B 申請公布日 2021-07-23
分類號 G09F3/02（2006.01）I;G02B3/00（2006.01）I 分類 教育；密碼術；顯示；廣告；印鑒;
發(fā)明人 楊志方;牟靖文;何亮;葛宏偉;寇倩倩 申請（專利權）人 武漢華工圖像技術開發(fā)有限公司
代理機構 武漢東喻專利代理事務所（普通合伙） 代理人 李佑宏
地址 430023湖北省武漢市東湖新技術開發(fā)區(qū)大學園路
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種基于微透鏡陣列的圖文防偽結構，包括依次層疊設置的基材層、微圖文層和背膠層，所述微圖文層包括依次層疊的結構層、金屬層和油墨層，結構層一側緊鄰基材層，另一側設置有含有圖文信息的凹凸結構，凹凸結構的凹陷面（凸起面）上附有鋁層，油墨層緊鄰凹凸結構的凸起面（凹陷面）設置，并與凹陷面（凸起面）的鋁層相貼合，鋁層與油墨層相互對比凸顯出結構層的圖文結構，形成在凹凸結構中局部鍍鋁的鏤空效果。本發(fā)明還公開了該圖文防偽結構的制備方法。本發(fā)明技術方案針對目前微圖文結構印刷效果差的情況，采用兩級凹凸結構設計，且采用不同的涂層對凹凸結構進行對比突出，結合微透鏡陣列，有效提高了圖文防偽薄膜的安全性能。