過濾雜射X射線的濾線柵及其制備方法、X射線探測器
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202011254605.5 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN112409826A | 公開(公告)日 | 2021-02-26 |
| 申請公布號 | CN112409826A | 申請公布日 | 2021-02-26 |
| 分類號 | C09D1/00(2006.01)I;C09D7/65(2018.01)I;G01T1/00(2006.01)I;C09D7/63(2018.01)I | 分類 | 染料;涂料;拋光劑;天然樹脂;黏合劑;其他類目不包含的組合物;其他類目不包含的材料的應用; |
| 發(fā)明人 | 顧楊建;邱承彬 | 申請(專利權)人 | 上??峋劭萍加邢薰?/a> |
| 代理機構 | 上海光華專利事務所(普通合伙) | 代理人 | 余明偉 |
| 地址 | 201201上海市浦東新區(qū)中國(上海)自由貿易試驗區(qū)芳春路400號1幢3層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明提供一種過濾雜射X射線的濾線柵及其制備方法、及一種X射線探測器。制備方法包括將金屬粉末材料、粘結劑、分散劑、消泡劑及溶劑中的兩種或兩種以上相混合以制備成漿料,將漿料涂布于基材上形成X射線吸收材料層后進行干燥,其中,漿料中,金屬粉末材料的質量百分比為1~80%,粘結劑的質量百分比為1~60%,分散劑的質量百分比為0~20%,消泡劑的質量百分比為0~20%,溶劑的質量百分比為1~80%。本發(fā)明可制備線密度大的濾線柵,同時可提高材料的利用率,降低生產(chǎn)成本。基于本發(fā)明制備的濾線柵,具有較高的線密度,且可以提高對雜散X射線的過濾效果。采用本發(fā)明的濾線柵的X射線探測器,其成像質量可以顯著提高。?? |





