帶有防護(hù)裝置的反應(yīng)腔
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201811583844.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN111349909A | 公開(kāi)(公告)日 | 2020-06-30 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111349909A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-06-30 |
| 分類號(hào) | C23C16/44;C23C16/455 | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 龐云玲;王祎;南建輝;丁建 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 深圳市永盛隆科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京華夏泰和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 孟德棟 |
| 地址 | 518112 廣東省深圳市龍崗區(qū)布吉街道金排社區(qū)東方盛世C棟2單元403 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種帶有防護(hù)裝置的反應(yīng)腔,包括:腔體和設(shè)置在腔體內(nèi)的載板、噴淋裝置及輔助裝置;載板用于承載晶片;噴淋裝置位于載板的上方;輔助裝置位于載板的下方;腔體內(nèi)還設(shè)置有防護(hù)裝置,防護(hù)裝置用于將載板的上方區(qū)域和下方區(qū)域分隔;和/或用于改變腔體內(nèi)氣體通道中氣流的流動(dòng)方向,以使氣流經(jīng)過(guò)薄膜生長(zhǎng)區(qū)之外的區(qū)域,并限制薄膜生長(zhǎng)區(qū)的氣體與薄膜生長(zhǎng)區(qū)之外的氣體的交換。利用本發(fā)明,反應(yīng)后的氣體、副產(chǎn)品及其微粒由腔體上的排氣口排出,從而對(duì)生長(zhǎng)區(qū)之外的零部件進(jìn)行防護(hù),提高了產(chǎn)品的質(zhì)量,同時(shí)提高了腔體內(nèi)零部件的壽命,縮短了腔體內(nèi)零部件的維護(hù)周期和維護(hù)成本。 |





