一種通過熔鹽進(jìn)行加熱的等離子體熔融爐裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120245077.0 申請日 -
公開（公告）號 CN215062112U 公開（公告）日 2021-12-07
申請公布號 CN215062112U 申請公布日 2021-12-07
分類號 F23G7/00（2006.01）I;F23G5/44（2006.01）I;F27D11/10（2006.01）I;F28D20/00（2006.01）I 分類 燃燒設(shè)備；燃燒方法;
發(fā)明人 謝庚;王衛(wèi)民;雷仲波;王山;孫毅晨;吳忠勇;陶應(yīng)翔 申請（專利權(quán)）人 重慶新離子環(huán)境科技有限公司
代理機構(gòu) 西安弘理專利事務(wù)所 代理人 戴媛
地址 400000重慶市大渡口區(qū)思源路32號5幢（二層、三層）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種通過熔鹽進(jìn)行加熱的等離子體熔融爐裝置，包括爐體，爐體密封連接爐蓋，爐體側(cè)壁開設(shè)多個由外向內(nèi)傾斜向下的等離子體炬通道，每個等離子體炬通道內(nèi)連接等離子體炬a，爐體的側(cè)壁由外向內(nèi)開設(shè)傾斜向下的排料通道，爐體內(nèi)壁和排料通道內(nèi)壁均密封連接導(dǎo)熱層，導(dǎo)熱層與爐體、排料通道內(nèi)壁形成密封腔體，密封腔體內(nèi)填充熔鹽層，爐體內(nèi)壁位于密封腔體內(nèi)還連接電極，爐體上方側(cè)壁開設(shè)進(jìn)料通道；通過在等離子爐中設(shè)置高溫熔鹽層，通過加熱熔鹽，對等離子體熔融爐爐底，爐側(cè)進(jìn)行加熱，實現(xiàn)熱量的高效利用，從而使?fàn)t膛物料均勻熔化，改善熔融物料的流動性，實現(xiàn)自動化進(jìn)料出料操作。