線路板上導(dǎo)通孔的保護(hù)方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202210538409.3 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN114760771A | 公開(公告)日 | 2022-07-15 |
| 申請公布號 | CN114760771A | 申請公布日 | 2022-07-15 |
| 分類號 | H05K3/28(2006.01)I;H05K3/06(2006.01)I | 分類 | 其他類目不包含的電技術(shù); |
| 發(fā)明人 | 皇甫銘;徐美麗 | 申請(專利權(quán))人 | 福萊盈電子股份有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 蘇州隆恒知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | - |
| 地址 | 215011江蘇省蘇州市高新區(qū)金楓路189號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種線路板上導(dǎo)通孔的保護(hù)方法,包括以下步驟:在線路板本體上形成凸出于所述線路板本體的導(dǎo)通孔;在所述線路板本體上所述導(dǎo)通孔所在的一側(cè)覆蓋第一UV干膜;將所述導(dǎo)通孔周圍的所述第一UV干膜進(jìn)行曝光,并去除其余的所述第一UV干膜;對所述第一UV干膜進(jìn)行壓膜處理;在所述線路板本體上所述導(dǎo)通孔所在的一側(cè)覆蓋第二UV干膜;將所述第一UV干膜遠(yuǎn)離所述線路板本體一端的所述第二UV干膜進(jìn)行曝光,并去除其余的所述第二UV干膜;對所述第二UV干膜進(jìn)行壓膜處理;使用蝕刻液對所述線路板本體進(jìn)行蝕刻;去除所述第一UV干膜和所述第二UV干膜。本發(fā)明避免在蝕刻時蝕刻液與導(dǎo)通孔進(jìn)行接觸,進(jìn)而避免產(chǎn)品報廢的情況,提升了產(chǎn)品的合格率。 |





