一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111499889.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN114086152A | 公開(公告)日 | 2022-02-25 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114086152A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-02-25 |
| 分類號(hào) | C23C16/40(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;C23C16/50(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 劉洋;金補(bǔ)哲;葉新浩;厲冰峰;蔡宇航 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 盛吉盛(寧波)半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海市匯業(yè)律師事務(wù)所 | 代理人 | 王函 |
| 地址 | 315100浙江省寧波市鄞州區(qū)云龍鎮(zhèn)石橋村 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明實(shí)施例提出一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備,所述設(shè)備包括:遠(yuǎn)程等離子體源;反應(yīng)室;真空泵;用于連接該遠(yuǎn)程等離子體源和該反應(yīng)室的進(jìn)氣管道,主清潔氣體通過該進(jìn)氣管道從該遠(yuǎn)程等離子體源進(jìn)入該反應(yīng)室;用于連接該反應(yīng)室和該真空泵的排氣管道;該進(jìn)氣管道上有一支路管道,接入支路清潔氣體。進(jìn)一步地,該排氣管道呈入口端窄,出口端寬的形狀。本發(fā)明提供的改進(jìn),有效提高了吹掃進(jìn)氣管道內(nèi)壁上的沉積物形成的污染物的效率,還提高了清潔效率,從而延長(zhǎng)了進(jìn)行預(yù)防性維護(hù)的周期,也就是增加了單位時(shí)間內(nèi)設(shè)備得到有效使用的時(shí)間,因此大幅降低了生產(chǎn)成本。 |





