一種物理氣相沉積用磁控濺射裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111499885.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN114086144A | 公開（公告）日 | 2022-02-25 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114086144A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-02-25 |
| 分類號(hào) | C23C14/35（2006.01）I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 羅正勇;金補(bǔ)哲 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 盛吉盛（寧波）半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海市匯業(yè)律師事務(wù)所 | 代理人 | 王函 |
| 地址 | 315100浙江省寧波市鄞州區(qū)云龍鎮(zhèn)石橋村 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明通過在磁控濺射裝置底座上沿徑向交錯(cuò)、均勻布置偶數(shù)數(shù)量的條形永磁鐵，使得相鄰的兩個(gè)條形永磁鐵兩端的磁力線閉合，有利于束縛腔室內(nèi)的電子，形成更多的等離子，增加濺射效率；通過設(shè)置磁鐵調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)整條形永磁鐵在徑向上的位置，使得靶材上磁感應(yīng)強(qiáng)度分布更均勻，靶材被均勻?yàn)R射，提高靶材使用率；通過在磁控濺射裝置邊緣設(shè)置上方為S極、下方為N極的環(huán)形永磁鐵，增強(qiáng)裝置邊緣的磁感應(yīng)強(qiáng)度，有效束縛靶材邊緣的電子，使靶材邊緣與中間的濺射速度相同進(jìn)而提升靶材使用率，提升基片上薄膜的均勻性。靶材利用率從原來的30％，提升到約60％，降低了生產(chǎn)成本；基片薄膜的均勻性則從原來的約3％提升到約0.8％，提升了產(chǎn)品的穩(wěn)定性，增加了良率。 |
