一種具有良好導(dǎo)流功能的FFU系統(tǒng)安裝結(jié)構(gòu)
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202120176836.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN213936137U | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-08-10 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN213936137U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-08-10 |
| 分類號(hào) | H01L21/67;B08B15/04 | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 張靜;鄧信甫;徐銘;陳佳煒;李志鋒;劉大威 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 至微半導(dǎo)體(上海)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京沁優(yōu)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉富艷 |
| 地址 | 200000 上海市閔行區(qū)紫海路170號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種具有良好導(dǎo)流功能的FFU系統(tǒng)安裝結(jié)構(gòu),其技術(shù)方案要點(diǎn)是包括氣流空間,氣流空間位于外殼頂部,氣流空間內(nèi)設(shè)置有分隔部和導(dǎo)流部,通過(guò)分隔板將氣流空間分成第一空間和第二空間,機(jī)器手臂區(qū)域位于第一空間下方,工藝槽體區(qū)域位于第二空間下方,工藝槽體區(qū)域內(nèi)進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)之后,酸氣向上揮發(fā)至第二空間,通過(guò)分隔板使得酸氣難以進(jìn)入第一空間,使得機(jī)器手臂區(qū)域的器械不受腐蝕,將第一導(dǎo)流板設(shè)置于第一空間內(nèi),將第二導(dǎo)流板設(shè)置于第二空間內(nèi),且第一導(dǎo)流板和第二導(dǎo)流板均傾斜設(shè)置,F(xiàn)FU系統(tǒng)中的氣流從上往下流經(jīng)第二導(dǎo)流板之后,氣流的流速變快,從而帶動(dòng)酸氣遠(yuǎn)離第二空間。 |





