一種可適應(yīng)于晶圓傳遞的廣用型晶圓傳遞機(jī)構(gòu)
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202023279801.6 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN214226888U | 公開(公告)日 | 2021-09-17 |
| 申請公布號 | CN214226888U | 申請公布日 | 2021-09-17 |
| 分類號 | H01L21/677(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 鄧信甫;方超;劉大威;陳丁堃 | 申請(專利權(quán))人 | 至微半導(dǎo)體(上海)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海申新律師事務(wù)所 | 代理人 | 沈棟棟 |
| 地址 | 200241上海市閔行區(qū)紫海路170號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種可適應(yīng)于晶圓傳遞的廣用型晶圓傳遞機(jī)構(gòu),涉及到半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,包括第一晶圓導(dǎo)片傳遞區(qū)、晶圓清洗工藝區(qū)、晶圓干燥區(qū)和第二晶圓導(dǎo)片傳遞區(qū),其中,晶圓清洗工藝區(qū)的一側(cè)設(shè)有第一晶圓導(dǎo)片傳遞區(qū),晶圓清洗工藝區(qū)的另一側(cè)依次設(shè)有晶圓干燥區(qū)和第二晶圓導(dǎo)片傳遞區(qū),晶圓清洗工藝區(qū)內(nèi)設(shè)有若干個(gè)清洗槽,清洗槽的上側(cè)設(shè)有用于夾持并傳遞晶圓盒的機(jī)械手。其可以提高晶圓盒的傳輸效率,能夠?qū)崿F(xiàn)對機(jī)械手及晶圓盒的清洗、干燥處理,可避免晶圓盒受到機(jī)械手的污染,提高清洗效率。 |





