一種用于晶圓的傳遞機構(gòu)
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202023280039.3 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN214226890U | 公開(公告)日 | 2021-09-17 |
| 申請公布號 | CN214226890U | 申請公布日 | 2021-09-17 |
| 分類號 | H01L21/677(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 陳佳煒;徐銘;鄧信甫;李志鋒;劉大威 | 申請(專利權(quán))人 | 至微半導體(上海)有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 上海申新律師事務所 | 代理人 | 沈棟棟 |
| 地址 | 200241上海市閔行區(qū)紫海路170號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型公開了一種用于晶圓的傳遞機構(gòu),涉及到半導體技術(shù)領(lǐng)域,包括中央導片區(qū)域,和設于中央導片區(qū)域內(nèi)的水平導片機構(gòu),以及設于中央導片區(qū)域的一端的入貨窗口備載區(qū),設于中央導片區(qū)域的一側(cè)的第一承載傳遞區(qū),和設于中央導片區(qū)域的另一側(cè)的第二承載傳遞區(qū);其中,入貨窗口備載區(qū)包括框體、線性機器人、傳遞平臺和銜接平臺,框體內(nèi)設有至少兩個傳遞平臺,傳遞平臺的一側(cè)依次設有一線性機器人和一銜接平臺。其整體能夠使晶圓傳輸效率的提升,進而構(gòu)成提升與加強批量晶圓負載的能力,大幅提升半導體濕法工藝設備的執(zhí)行工藝的稼動率。 |





