金屬植入物磁共振成像方法、系統(tǒng)、終端及存儲介質(zhì)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011209857.6 申請日 -
公開（公告）號 CN112630709A 公開（公告）日 2021-04-09
申請公布號 CN112630709A 申請公布日 2021-04-09
分類號 G01R33/28(2006.01)I;A61B5/055(2006.01)I;G01R33/36(2006.01)I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 李行璇 申請（專利權(quán)）人 成都易檢醫(yī)療科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海申新律師事務(wù)所 代理人 竺路玲
地址 610200四川省成都市中國（四川）自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)成都市雙流區(qū)東升街道航樞大道500號3樓附301號附22號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種金屬植入物磁共振成像方法、系統(tǒng)、終端及存儲介質(zhì)，應(yīng)用于超低場磁共振成像裝置，其特征在于，包括：根據(jù)所述金屬植入物的信息獲取安全掃描參數(shù)；根據(jù)所述安全掃描信息設(shè)置所述超低場磁共振成像裝置的射頻參數(shù)及成像參數(shù)；根據(jù)所述射頻參數(shù)及所述成像參數(shù)進(jìn)行磁共振成像，能夠應(yīng)用超低場的磁共振成像裝置進(jìn)行金屬植入物磁共振成像，獲得的圖像清晰，不會受到金屬植入物高固有磁化率的影響。??