一種真空熱處理爐
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111308247.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN114018043A | 公開(kāi)(公告)日 | 2022-02-08 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114018043A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-02-08 |
| 分類號(hào) | F27B9/04(2006.01)I;F27B9/06(2006.01)I;F27B9/12(2006.01)I;F27B9/26(2006.01)I;F27B9/38(2006.01)I;F27B9/40(2006.01)I;F27D1/18(2006.01)I;C21D9/00(2006.01)I;C21D1/773(2006.01)I;C21D1/34(2006.01)I | 分類 | 爐;窯;烘烤爐;蒸餾爐〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 步懷立;高光偉;辛巖;劉舒;付秀華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 沈陽(yáng)恒進(jìn)真空科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京知呱呱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 陳晨 |
| 地址 | 110000遼寧省沈陽(yáng)市渾南新區(qū)學(xué)院路1號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種真空熱處理爐,涉及熱處理爐技術(shù)領(lǐng)域,包括爐體和多個(gè)加熱裝置,爐體的內(nèi)部具有加熱室,加熱裝置位于加熱室的上側(cè)、加熱室的前側(cè)、加熱室的后側(cè)、加熱室的左側(cè)、加熱室的右側(cè)和加熱室的下側(cè)。加熱室的前、后、左、右四個(gè)面和上下兩個(gè)面分別設(shè)有加熱裝置,加熱室一共有六個(gè)加熱面,對(duì)加熱室內(nèi)的工件進(jìn)行六面加熱,熱處理過(guò)程中使工件受熱均勻,并且提高加熱速度。 |





