一種具有清洗功能的晶圓研磨設(shè)備
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201921762462.1 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN211163353U | 公開（公告）日 | 2020-08-04 |
| 申請公布號 | CN211163353U | 申請公布日 | 2020-08-04 |
| 分類號 | B24B27/00(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 陸孫華 | 申請（專利權(quán)）人 | 蘇州英爾捷微電子股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京輕創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 蘇州英爾捷微電子股份有限公司 |
| 地址 | 215228江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)唯亭雙馬街2號星華產(chǎn)業(yè)園19-2號廠房 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實用新型公開了一種具有清洗功能的晶圓研磨設(shè)備，包括頂板、漏斗盤、連接擋板、水箱外殼和噴水件，頂板通過第二伸縮柱與第三支撐桿固定連接，第三支撐桿與水箱外殼固定連接，水箱外殼與連接擋板固定連接，水箱外殼的內(nèi)腔中濾水件的右側(cè)為凈水腔，凈水腔內(nèi)放置有潛水泵，潛水泵通過第一水管與連接水管底座相互連通，連接水管底座通過第一水管與噴水件相互連通，連接擋板通過第一支撐桿與漏斗盤固定連接。本實用新型解決了只能對單一的晶圓進(jìn)行加工研磨，以及在放置晶圓時往往存在偏差錯位，進(jìn)而導(dǎo)致吸板不能將晶圓牢牢吸緊，在研磨時晶圓容易拋飛，同時傳統(tǒng)的晶圓研磨設(shè)備只能進(jìn)行簡單的沖洗，并不能有效的對晶圓表面進(jìn)行清洗的問題。?? |
