相位調(diào)制方法、相位調(diào)制器、標記對準系統(tǒng)及可讀存儲介質(zhì)
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201910465393.6 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN112015060B | 公開(公告)日 | 2021-10-19 |
| 申請公布號 | CN112015060B | 申請公布日 | 2021-10-19 |
| 分類號 | G03F9/00(2006.01)I;G02F1/03(2006.01)I | 分類 | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 胥欣;孫建超 | 申請(專利權(quán))人 | 上海微電子裝備(集團)股份有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 上海思捷知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 王宏婧 |
| 地址 | 201203上海市浦東新區(qū)張東路1525號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種相位調(diào)制方法、相位調(diào)制器、標記對準系統(tǒng)及可讀存儲介質(zhì),在調(diào)制頻率一定的情況下,能夠通過改變最大調(diào)制幅度和/或調(diào)制幅度數(shù)量,來對用于光學對準的激光進行相位調(diào)制,以抑制寄生干涉,使得所述調(diào)制頻率對應(yīng)的雜散光消失的光程差范圍內(nèi)的雜散光條紋對比度更接近于0,進而實現(xiàn)雜散光影響的消除,提高光學對準信號的精度。進一步地,本發(fā)明的技術(shù)方案,還可以通過改變調(diào)制頻率來有效增大雜散光消失的光程差范圍,以滿足不同焦距的不同光學對準系統(tǒng)的需求,通用性高。 |





