一種帶限位裝置熔儲雙層盤

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202020042416.0 申請日 -
公開（公告）號 CN211236379U 公開（公告）日 2020-08-11
申請公布號 CN211236379U 申請公布日 2020-08-11
分類號 G02B6/44(2006.01)I;G02B6/255(2006.01)I 分類 光學;
發(fā)明人 羊昱霖 申請（專利權）人 浙江富陽農村商業(yè)銀行股份有限公司靈橋支行
代理機構 杭州永繹專利代理事務所（普通合伙） 代理人 許傳秀
地址 311418浙江省杭州市富陽區(qū)里山鎮(zhèn)環(huán)安路9號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種帶限位裝置熔儲雙層盤，包括盤體和側圍環(huán)，所述盤體的外壁兩側設置有滑軌，且盤體的正面與背面固定有內盤體，所述內盤體的外壁四周貼合有側圍環(huán)，所述內盤體的內盤體的中部設置有束線盤，且內盤體的內側兩端活動連接有轉軸，所述轉軸的外壁固定有收線輪，且收線輪的外壁貼合有軟墊層，所述盤體的一側內壁設置有引導板。該帶限位裝置熔儲雙層盤設置有束線盤，束線盤沿內盤體的中心線處分布，整個側圍環(huán)采用環(huán)狀均勻分布在內盤體的外壁四周，同時與束線盤之間相互配合達到對初步線束限位固定保護的需求。??