一種OLED制程提高光刻膠剝離效果的方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010499955.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN111628117A | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-09-04 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111628117A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-09-04 |
| 分類(lèi)號(hào) | H01L51/56(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 胡璐 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 南京華易泰電子科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京盛凡智榮知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 南京華易泰電子科技有限公司 |
| 地址 | 210043江蘇省南京市江北新區(qū)智能制造園博富路10號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明專(zhuān)利公開(kāi)了一種OLED制程提高光刻膠剝離效果的方法，其方法包括如下步驟：首先在OLED基板上涂覆一層光阻層(PR)；對(duì)涂覆光阻層的基板上方，用掩膜版覆蓋，從上方進(jìn)行曝光照射，使該區(qū)域的光刻膠發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)，將掩膜版阻擋的部位定義為A；OLED基板上被掩膜版阻擋的部位A區(qū)域的光刻膠溶解脫落；本發(fā)明專(zhuān)利通過(guò)干刻蝕法對(duì)表面蒸鍍OLED功能層的基板進(jìn)行處理，使得剝膜液可以順利在OLED功能層未覆蓋的光阻裸露區(qū)域與其接觸，達(dá)到有效去除光阻目的，解決了目前采用的OLED蒸鍍制程工藝在進(jìn)行蒸鍍后光刻膠難剝離，容易造成光刻膠無(wú)法順利去除，從而影響后續(xù)制程的問(wèn)題，避免了OLED顯示器產(chǎn)生像素點(diǎn)缺色形成黑點(diǎn)，造成顯示不良的情況。?? |
