紫外寬光譜無掩膜光刻成像系統(tǒng)以及光刻機

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110505623.4 申請日 -
公開（公告）號 CN113219793A 公開（公告）日 2021-08-06
申請公布號 CN113219793A 申請公布日 2021-08-06
分類號 G03F7/20（2006.01）I;G02B13/00（2006.01）I;G02B13/22（2006.01）I 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 李鵬飛;楊宇航;蔡濰;戚蓉蓉 申請（專利權）人 合肥芯碁微電子裝備股份有限公司
代理機構 北京景聞知識產權代理有限公司 代理人 賈玉姣
地址 230088安徽省合肥市高新區(qū)創(chuàng)新大道2800號創(chuàng)新產業(yè)園二期F3樓11層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種紫外寬光譜無掩膜光刻成像系統(tǒng)以及光刻機，紫外寬光譜無掩膜光刻成像系統(tǒng)包括：第一鏡頭組件、光闌以及第二鏡頭組件，第一鏡頭組件的焦距為f1，第二鏡頭組件的焦距為f2，紫外寬光譜無掩膜光刻成像系統(tǒng)的焦距為f，紫外寬光譜無掩膜光刻成像系統(tǒng)滿足關系式：0.05≤f1/f≤0.09，0.21≤f2/f≤0.41；第一透鏡到第十二透鏡沿光軸從物側到像側依次設置，且第一透鏡到第十二透鏡均為單透鏡。根據(jù)本發(fā)明的紫外寬光譜無掩膜光刻成像系統(tǒng)，可采用更寬波段的光源，并以較少數(shù)量的透鏡，實現(xiàn)了高成像質量、大焦深和高透過率設計，不采用膠合透鏡，使得光學成像系統(tǒng)更穩(wěn)定性，不僅降低了光刻成本，而且光刻設備具有更高的運行穩(wěn)定性。