一種激光直接成像設(shè)備成像位置誤差的測(cè)量方法及系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201910534140.X 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN110320762B 公開(kāi)（公告）日 2021-08-13
申請(qǐng)公布號(hào) CN110320762B 申請(qǐng)公布日 2021-08-13
分類號(hào) G03F7/20（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 尤勇;嚴(yán)孝年 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 合肥芯碁微電子裝備股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 合肥天明專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 奚華保
地址 230088安徽省合肥市高新區(qū)創(chuàng)新大道2800號(hào)創(chuàng)新產(chǎn)業(yè)園二期F3樓11層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種激光直接成像設(shè)備成像位置誤差的測(cè)量方法及系統(tǒng)，屬于印刷電路板圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)領(lǐng)域，包括：將待檢測(cè)的拼接誤差測(cè)量圖形輸入至激光直接成像設(shè)備；在激光直接成像設(shè)備的曝光工作臺(tái)上放置一塊基板，并將拼接誤差測(cè)量圖形的形貌投影在所述基板上，以對(duì)基板進(jìn)行曝光成像；將投影成像后的基板固定在可測(cè)量MARK圓中心坐標(biāo)的測(cè)量設(shè)備上，并利用測(cè)量設(shè)備測(cè)量出三個(gè)MARK圓的中心坐標(biāo)；根據(jù)三個(gè)MARK圓的中心坐標(biāo)，計(jì)算拼接誤差測(cè)量圖形的拼接處誤差。本發(fā)明極大的提高了測(cè)量效率和測(cè)量準(zhǔn)確性，并且適用范圍較大。