一種用于激光直接成像設(shè)備正反面成像對位的打標(biāo)方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910686270.5 申請日 -
公開（公告）號 CN110441993B 公開（公告）日 2021-08-13
申請公布號 CN110441993B 申請公布日 2021-08-13
分類號 G03F7/20;G03F9/00 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 嚴(yán)孝年;尤勇 申請（專利權(quán)）人 合肥芯碁微電子裝備股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 合肥天明專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 奚華保
地址 230088 安徽省合肥市高新區(qū)創(chuàng)新大道2800號創(chuàng)新產(chǎn)業(yè)園二期F3樓11層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種用于激光直接成像設(shè)備正反面成像對位的打標(biāo)方法，屬于印刷電路板圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)領(lǐng)域，包括在基板正、反面覆有第一感光顯色材料；對涂布感光濕膜后的基板進(jìn)行烘干處理；在基板反面需要打?qū)ξ粯?biāo)靶的位置覆有第二感光顯色材料；安裝并調(diào)試基板后，對基板正、反面進(jìn)行曝光成像。本發(fā)明在激光直接成像設(shè)備正反面成像對位過程中，結(jié)合干膜和濕膜進(jìn)行使用，在實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確對位的同時降低了使用成本。