一種紅外輻射敏感的陽圖型可成像元件及其形成圖像的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911408294.0 申請日 -
公開（公告）號 CN111158214A 公開（公告）日 2020-05-15
申請公布號 CN111158214A 申請公布日 2020-05-15
分類號 G03F7/09;G03F7/004 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 翁銀巧;陶烴;高邈;徐能平;應(yīng)作挺;馬顯瑤;焦樂澤 申請（專利權(quán)）人 浙江康爾達(dá)新材料股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 溫州甌越專利代理有限公司 代理人 浙江康爾達(dá)新材料股份有限公司
地址 325000 浙江省溫州市工業(yè)園區(qū)機(jī)場大道929號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種紅外輻射敏感的陽圖型可成像元件，所述的可成像元件包含:（a）底基、（b）覆蓋在底基上方的內(nèi)涂層、（c）覆蓋在內(nèi)涂層上方的外涂層。所述的內(nèi)涂層包含一種衍生自馬來酰亞胺單體和（甲基）丙烯酰胺單體的重復(fù)單元、并且可溶于堿性顯影液的聚合物粘結(jié)劑P；所述的外涂層包含一種紅外輻射吸收化合物和一種不同于內(nèi)涂層的聚合物粘合劑Q。如此設(shè)計(jì)使得該可成像元件不僅可對最大波長為700~1200 nm的輻射敏感，而且當(dāng)其用作平版印刷版前體時(shí)對化學(xué)溶劑具有良好的耐抗性，在使用過程中不易發(fā)生被印刷化學(xué)品侵蝕、溶解的現(xiàn)象，從而有利于延長平版印刷版的使用壽命。