一種拋光墊
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111506323.4 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN114193319A | 公開(kāi)(公告)日 | 2022-03-18 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114193319A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-18 |
| 分類(lèi)號(hào) | B24B37/22(2012.01)I;B24B37/10(2012.01)I;B24B37/24(2012.01)I | 分類(lèi) | 磨削;拋光; |
| 發(fā)明人 | 羅乙杰;張季平;高越;劉敏 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 湖北鼎龍控股股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 430057湖北省武漢市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)東荊河路1號(hào)411號(hào)房 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種拋光墊,其中,拋光墊中的緩沖層在施加壓力F0后的應(yīng)力松弛階段t時(shí)刻的回復(fù)力Ft與施加壓力F0的比值與t滿(mǎn)足如下式(1)中的擬合關(guān)系,其中,0≤t≤30s,所述a、b為常數(shù),且滿(mǎn)足:0.01≤a≤0.1和/或1.0≤b≤1.1,式(1)的擬合優(yōu)度R2≥0.95,滿(mǎn)足上述擬合關(guān)系的緩沖層制備而來(lái)的拋光墊,去除速率曲線(xiàn)及邊緣去除速率在拋光墊的整個(gè)生命周期內(nèi)均保持穩(wěn)定,波動(dòng)較小,研磨速率不均一性NU值較低且波動(dòng)較小。f(t)=Ft/F0=?a·ln(t)+b (1)。 |





