二元氣霧劑清洗裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021272461.1 申請日 -
公開(公告)號 CN212264085U 公開(公告)日 2021-01-01
申請公布號 CN212264085U 申請公布日 2021-01-01
分類號 B08B9/093(2006.01)I 分類 清潔;
發(fā)明人 彭山宏;徐大成 申請(專利權)人 揚州美達灌裝機械有限公司
代理機構 揚州市蘇為知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 代理人 葛軍
地址 225236江蘇省揚州市江都區(qū)丁溝鎮(zhèn)麻村村
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 二元氣霧劑清洗裝置。涉及氣霧劑加工,尤其涉及一種二元氣霧劑清洗裝置。提供了一種結構簡單,清洗方便可靠的二元氣霧劑清洗裝置。包括清洗缸、清洗料筒、單向閥體、壓縮彈簧和清洗頭,所述清洗缸與PLC控制器連接,所述清洗缸的活塞桿連接清洗料筒,所述清洗料筒的一側設有進料閥,所述進料閥連通清洗料筒內(nèi)的清洗劑腔,所述清洗劑腔呈T形,所述清洗料筒的外部設有凸臺,所述壓縮彈簧套設在清洗料筒上、且位于凸臺和清洗頭之間。本實用新型方便操作,高效快速地達到清潔的效果。??