一種用于對納米銀線透明導(dǎo)電膜進(jìn)行電極圖案化的光學(xué)結(jié)構(gòu)膜及其圖案化方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911257174.5 申請日 -
公開（公告）號 CN111944414A 公開（公告）日 2020-11-17
申請公布號 CN111944414A 申請公布日 2020-11-17
分類號 C09D175/14;G06F3/041 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 張梓晗;呂鵬;姚成鵬;張運(yùn)奇;聶彪 申請（專利權(quán)）人 合肥微晶材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 安徽省合肥新安專利代理有限責(zé)任公司 代理人 合肥微晶材料科技有限公司
地址 230088 安徽省合肥市高新區(qū)夢園路7號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種用于對納米銀線透明導(dǎo)電膜進(jìn)行電極圖案化的光學(xué)結(jié)構(gòu)膜及其圖案化方法，是利用具有定位插入結(jié)構(gòu)的光學(xué)結(jié)構(gòu)膜與事先轉(zhuǎn)印到OCA光學(xué)膠上的納米銀線透明導(dǎo)電膜進(jìn)行熱壓合，使高硬度的定位插入結(jié)構(gòu)嵌入到納米銀線導(dǎo)電膜中，實(shí)現(xiàn)導(dǎo)電膜的電極圖案化，制得所需的導(dǎo)電電極圖案。本發(fā)明可以有效改善納米銀線透明導(dǎo)電膜的銀遷移和蝕刻痕問題，方法簡單、可靠度高。