晶圓吸盤及晶圓精雕固定裝置
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201921349072.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN210650183U | 公開(公告)日 | 2020-06-02 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN210650183U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-06-02 |
| 分類號(hào) | B24B41/06(2012.01)I;H01L21/683(2006.01)I | 分類 | 磨削;拋光; |
| 發(fā)明人 | 張啟興 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 浙江晶特光學(xué)科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 王秋月 |
| 地址 | 318001浙江省臺(tái)州市椒江區(qū)開發(fā)大道東段2198號(hào)研發(fā)大樓301室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實(shí)用新型提供了一種晶圓吸盤及晶圓精雕固定裝置,涉及晶圓固定裝置的技術(shù)領(lǐng)域,本實(shí)用新型提供的晶圓吸盤具有吸附端面;吸附端面凹陷形成鏤空部和第一負(fù)壓槽,鏤空部與第一負(fù)壓槽間隔設(shè)置;晶圓吸盤設(shè)有第一流體通道,且第一流體通道與第一負(fù)壓槽流體連通;本實(shí)用新型提供的晶圓吸盤緩解了現(xiàn)有技術(shù)中晶圓吸盤對(duì)晶圓造成磨損的技術(shù)問(wèn)題。?? |





