一種用于納米薄膜沉積的液相基板火焰合成裝置和方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201711467766.0 申請日 -
公開（公告）號 CN108149229B 公開（公告）日 2020-04-10
申請公布號 CN108149229B 申請公布日 2020-04-10
分類號 C23C18/12 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 郭聳;齊秀生;張琳;黃晏峰;余亮;趙安文;高尚 申請（專利權(quán)）人 江蘇中安信達(dá)科技咨詢有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京理工大學(xué)專利中心 代理人 南京理工大學(xué)
地址 210094 江蘇省南京市孝陵衛(wèi)200號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種用于納米薄膜沉積的液相基板火焰合成裝置和方法，屬于納米及超細(xì)材料制備領(lǐng)域。該裝置包括燃燒系統(tǒng)和液相基板沉積系統(tǒng)。該方法是通過火焰合成方法生長的納米顆粒在液體表面進(jìn)行沉積，液面的柔性使得顆粒沉積過程在二維方向進(jìn)行，進(jìn)而使得生長的單個顆?？杉皶r分散開來，降低了顆粒的團(tuán)聚程度，形成單分散性較好，薄膜厚度可控，密度均勻的納米薄膜，通過升降臺將附著板升起，使得薄膜在表面張力作用下附著在多孔板上，將納米膜置于烘箱烘干，即可得到致密薄膜。本發(fā)明不僅可以使得制備的納米材料粒徑分布更加均勻，還可以提高材料制備效率，適用于大規(guī)模生產(chǎn)各種氧化物薄膜，如二氧化鈦、氧化鋁以及氧化銅等薄膜材料。