水熱法及溶劑熱合法制備納米SiO2的工藝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN200910103083.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN101475176A 公開（公告）日 2009-07-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN101475176A 申請(qǐng)公布日 2009-07-08
分類號(hào) C01B33/113(2006.01)I 分類 無(wú)機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 張縱 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 重慶廣旺投資有限公司
代理機(jī)構(gòu) 重慶市前沿專利事務(wù)所 代理人 重慶廣旺投資有限公司
地址 400080重慶市大渡口區(qū)八橋鎮(zhèn)雙山村三社
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種水熱法及溶劑熱合法制備納米SiO2的工藝，其步驟是先將壓縮過(guò)濾后的空氣和H2與氣化SiCl4水解；再將得到的SiO2聚集；然后分離HCl收集SiO2；最后在濕熱空氣內(nèi)將吸附在SiO2表面的HCl除去得到最后的納米SiO2產(chǎn)品。本發(fā)明工藝在制備納米SiO2的過(guò)程中工序比較簡(jiǎn)單，能耗比較低，穩(wěn)定高效，可使脫酸時(shí)間縮短，解決產(chǎn)量大時(shí)脫酸困難的問(wèn)題，并且取消了通氮脫酸，使納米SiO2材料生產(chǎn)出來(lái)的純度高，顏色純，質(zhì)量得到提高，品質(zhì)得到保證。