一種蒸發(fā)源的匹配方法及其裝置、鍍膜設備
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201910562480.3 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN112144015A | 公開(公告)日 | 2020-12-29 |
| 申請公布號 | CN112144015A | 申請公布日 | 2020-12-29 |
| 分類號 | C23C14/24(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 龐浩;何嘉 | 申請(專利權)人 | 北京精誠鉑陽光電設備有限公司 |
| 代理機構 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 100176北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟開發(fā)區(qū)興盛街17號1幢1-2層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開一種蒸發(fā)源的匹配方法及其裝置、鍍膜設備,用以實現(xiàn)自動匹配蒸發(fā)源和鍍膜設備的目的,從而避免采用人工進行匹配造成工作量大,且工作效率較低的問題。一種蒸發(fā)源的匹配方法,包括:確定第一標識信息,以及與所述第一標識信息對應的蒸發(fā)源設置位置,所述第一標識信息用于標識鍍膜設備中蒸發(fā)源設置位置;根據(jù)所述第一標識信息,以及預設的標識信息之間的對應關系,確定與所述第一標識信息對應的第二標識信息,所述第二標識信息用于標識蒸發(fā)源;根據(jù)所述第二標識信息,確定與所述第二標識信息對應的蒸發(fā)源,并控制將所述蒸發(fā)源匹配在所述蒸發(fā)源設置位置。?? |





