一種用于CMP拋光設(shè)備的供液裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202121336662.8 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN215281523U | 公開（公告）日 | 2021-12-24 |
| 申請公布號 | CN215281523U | 申請公布日 | 2021-12-24 |
| 分類號 | B24B57/02（2006.01）I;B24B37/015（2012.01）I | 分類 | 磨削；拋光; |
| 發(fā)明人 | 付星星;蘆玲;其他發(fā)明人請求不公開姓名 | 申請（專利權(quán)）人 | 江蘇澳洋順昌集成電路有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 淮安市科文知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 | 代理人 | 吳宏宇 |
| 地址 | 223001 江蘇省淮安市清河新區(qū)景秀路6號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實用新型公開了一種用于CMP拋光設(shè)備的供液裝置，包括拋光液料桶，拋光液料桶包括內(nèi)層、外層，內(nèi)層和外層之間形成空腔，外層上具有與空腔連通的介質(zhì)進口、介質(zhì)出口，介質(zhì)進口連接冷卻介質(zhì)源。將料桶的體積縮小、增加拋光液氣動攪拌裝置、氣動隔膜泵及底部出料口改成錐形,降低料桶內(nèi)拋光液溫度、使拋光液充分?jǐn)嚢?，可有效改善拋光液的使用循環(huán)次數(shù)，從而降低輔料成本。 |
