一種在硅基材表面形成二氧化硅薄膜的制備設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111041644.1 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113737158A 公開（公告）日 2021-12-03
申請(qǐng)公布號(hào) CN113737158A 申請(qǐng)公布日 2021-12-03
分類號(hào) C23C16/52（2006.01）I;C23C16/40（2006.01）I;C23C16/46（2006.01）I;H01L21/02（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 周祥 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 徐州金琳光電材料產(chǎn)業(yè)研究院有限公司
代理機(jī)構(gòu) 合肥銘輝知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 張立榮
地址 221400江蘇省徐州市新沂市唐店街道眾創(chuàng)產(chǎn)業(yè)園A05棟
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于二氧化硅薄膜制備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種在硅基材表面形成二氧化硅薄膜的制備設(shè)備，針對(duì)存在的設(shè)備內(nèi)溫度、基板角度調(diào)節(jié)的問題，現(xiàn)提出以下方案，包括支架，所述支架用于支撐設(shè)備的一端；溫度圈，所述溫度圈用于支撐設(shè)備另一端；所述溫度圈的一端設(shè)有前驅(qū)體輸入組件，且溫度圈的另一端設(shè)有真空度調(diào)節(jié)組件。本發(fā)明中利用激光發(fā)生器為狹縫式，通過反射呈激光帶，由基板一側(cè)移動(dòng)覆蓋，同時(shí)激光的發(fā)射角根據(jù)轉(zhuǎn)動(dòng)軸帶動(dòng)發(fā)射鏡變化，同時(shí)的前驅(qū)體輸入端，噴涂出霧化狀的二氧化硅，在帶狀激光照射下依次基板表面覆膜，覆膜更加穩(wěn)定緊密，而且整體的覆膜更均勻。