圖像處理方法及裝置
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201980001824.1 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113243030B | 公開(公告)日 | 2022-07-12 |
| 申請公布號 | CN113243030B | 申請公布日 | 2022-07-12 |
| 分類號 | G09G3/34(2006.01)I | 分類 | 教育;密碼術(shù);顯示;廣告;印鑒; |
| 發(fā)明人 | 胡勝華;聶春揚(yáng);李瑞蓮;魏雪琴;戴珂 | 申請(專利權(quán))人 | 合肥鑫晟光電科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 100015北京市朝陽區(qū)酒仙橋路10號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 一種圖像處理方法,包括:構(gòu)建圖像數(shù)據(jù)分析模型,其中,圖像數(shù)據(jù)分析模型用于表征顯示面板的實(shí)際光透過率與調(diào)光子面板(1)的第一光透過率以及顯示子面板(2)的第二光透過率之間的關(guān)系(S100);獲取多個第一子像素(101)中的至少一個第一子像素(101)的第一灰階、以及與至少一個第一子像素(101)中的每個對應(yīng)的至少兩個第二子像素(201)的第二灰階(S200);獲取至少一個第一子像素(101)的第一灰階對應(yīng)的第一光透過率、以及與至少一個第一子像素(101)中的每個對應(yīng)的至少兩個第二子像素(201)的第二灰階對應(yīng)的第二光透過率,并根據(jù)圖像數(shù)據(jù)分析模型,分別確定至少兩個第二子像素(201)的第二灰階對應(yīng)的實(shí)際光透過率(S300);分別獲取至少兩個第二子像素(201)的第二灰階對應(yīng)的目標(biāo)光透過率,并根據(jù)至少兩個第二子像素(201)的第二灰階對應(yīng)的實(shí)際光透過率以及目標(biāo)光透過率,確定至少兩個第二子像素(201)對應(yīng)的補(bǔ)償灰階(S400)。 |





