一種熔窯出料口專用下料裝置
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202121295917.0 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN214892521U | 公開(公告)日 | 2021-11-26 |
| 申請公布號 | CN214892521U | 申請公布日 | 2021-11-26 |
| 分類號 | F27B1/21(2006.01)I | 分類 | 爐;窯;烘烤爐;蒸餾爐〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 韓祥;彭昆;李超;李宜謙;胡詩杭 | 申請(專利權)人 | 鳳陽凱盛硅材料有限公司 |
| 代理機構 | 合肥正則元起專利代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 王俊曉 |
| 地址 | 233121安徽省滁州市鳳陽縣工業(yè)園區(qū) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型公開了一種熔窯出料口專用下料裝置,包括框架,所述框架上端斜面處固定安裝有上料斗;所述上料斗內(nèi)部四周位置處開設有內(nèi)置限定槽,所述內(nèi)置限定槽內(nèi)部兩側中間處均開設有邊側滑槽,所述內(nèi)置限定槽內(nèi)部活動有內(nèi)置活動板,且內(nèi)置活動板兩側端面均固定有位于邊側滑槽內(nèi)部滑動的邊側滑塊,所述邊側滑槽內(nèi)部兩側均開設有若干個抵觸圓槽,所述邊側滑塊內(nèi)部開設有球體活動槽,兩個相對應的所述抵觸圓球之間固定有內(nèi)置抵觸簧,所述抵觸圓球位于抵觸圓槽內(nèi)部,該下料裝置不僅能夠有效改變整個上料斗的上料長度,便于外部人員對料體進行下料處理工作,避免料體泄漏,同時也能夠輸送到指定儲物位置處,達到較好的下料效果。 |





