一種減少拋光片表面劃痕方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202010258285.4 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113492399A | 公開(公告)日 | 2021-10-12 |
| 申請公布號 | CN113492399A | 申請公布日 | 2021-10-12 |
| 分類號 | B25J9/16(2006.01)I;B25J15/06(2006.01)I | 分類 | 手動工具;輕便機動工具;手動器械的手柄;車間設(shè)備;機械手; |
| 發(fā)明人 | 王錫銘;張俊寶;陳猛 | 申請(專利權(quán))人 | 重慶超硅半導(dǎo)體有限公司 |
| 代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 400714重慶市北碚區(qū)兩江新區(qū)云漢大道5號附188 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明是一種集成電路用拋光機減少拋光后硅片表面劃痕的方法。通過對化學(xué)機械拋光機拋光完成后陶瓷盤取盤流程的設(shè)計,將拋光機機械手臂抓取陶瓷盤的流程分為水平拉取動作A和垂直抓取動作B;水平拉取動作A由相同的、周期性發(fā)生單元水平拉取動作a(簡稱為單元動作a)構(gòu)成,垂直抓取動作B由n個垂直方向上的單元垂直拉取動作(簡稱單元動作b)組成,在單元動作b中所受的提拉力Fn隨提拉次數(shù)n改變,單元動作a與單元動作b交替進行共同構(gòu)成陶瓷盤抓取的整體動作,以此使得抓取陶瓷盤過程的水平移動總距離S和垂直移動總距離H最小,在減小機械手損傷的同時減小拋光片產(chǎn)品出現(xiàn)劃傷的可能。 |





