適用于電容用氮化硅和做屏蔽層保護(hù)用氮化硅的氣路系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201820475654.3 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN208154103U 公開（公告）日 2018-11-27
申請公布號(hào) CN208154103U 申請公布日 2018-11-27
分類號(hào) F17D1/02;F17D3/01;F17D3/18 分類 氣體或液體的貯存或分配;
發(fā)明人 楊勇;余慶;趙江波;王艷兵;方勇進(jìn);張敏森;張國成 申請（專利權(quán)）人 華越微電子有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海精晟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 華越微電子有限公司
地址 312000 浙江省紹興市環(huán)城西路天光橋3號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種適用于電容用氮化硅和做屏蔽層保護(hù)用氮化硅的氣路系統(tǒng)，包括第四進(jìn)氣管；所述的第四進(jìn)氣管上依次安裝有第四隔膜閥、第四調(diào)壓閥、第十七常閉氣動(dòng)閥；所述的第四進(jìn)氣管與第五質(zhì)量流量計(jì)通過管路相連；所述的第十常閉氣動(dòng)閥、第十一常閉氣動(dòng)閥之間的管路與第十八常閉氣動(dòng)閥通過管路相連；所述的第十八常閉氣動(dòng)閥通過管路與所述的第十七常閉氣動(dòng)閥、第五質(zhì)量流量計(jì)之間的管路相連；所述的第五質(zhì)量流量計(jì)通過管路與第十九常閉氣動(dòng)閥相連；所述的第十九常閉氣動(dòng)閥通過管路與第九常閉氣動(dòng)閥通過管路相連。本實(shí)用新型系統(tǒng)能適用CAP?SIN或F?SIN兩種工藝，且運(yùn)行穩(wěn)定，適應(yīng)性強(qiáng)，以最小投入成本完成系統(tǒng)改造。