一種MPCVD制備摻雜氮磷石墨烯的方法
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201810824857.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN108910867A | 公開(kāi)(公告)日 | 2018-11-30 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN108910867A | 申請(qǐng)公布日 | 2018-11-30 |
| 分類號(hào) | C01B32/186 | 分類 | 無(wú)機(jī)化學(xué); |
| 發(fā)明人 | 陳木成;馬肅霜 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 恒力(廈門)石墨烯科技產(chǎn)業(yè)集團(tuán)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 361003 福建省廈門市中國(guó)(福建)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)廈門片區(qū)翔云一路95號(hào)運(yùn)通中心604B單元之五一八 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種MPCVD制備摻雜氮磷石墨烯的方法,在微波等離子體沉積裝置中進(jìn)行,包括步驟如下:S1:將于P2O5粉末放入罩子帶有孔的石英坩堝中,然后置于離子體反應(yīng)腔內(nèi);S2:在清洗烘干過(guò)的硅襯底上鍍一層金屬催化劑薄膜,然后置于沉積室中。本發(fā)明通過(guò)微波等離子體氣相化學(xué)沉積,直接反應(yīng)制備得到氮磷共摻雜石墨烯,摒棄了對(duì)環(huán)境和設(shè)備存在污染和腐蝕的氣體,制備工藝更加綠色環(huán)保;與氧化還原法相比,本發(fā)明方法性價(jià)比高,產(chǎn)量高,可制備大片徑氮磷共摻雜石墨烯,厚度易于控制,可以規(guī)?;a(chǎn),并且石墨烯中的N原子和P原子摻雜濃度可調(diào),具有較高的科研與產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用價(jià)值。 |





