一種耐高溫抗中子輻照型聚酰亞胺復(fù)合薄膜及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201610543787.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN106189227B 公開(kāi)（公告）日 2019-02-26
申請(qǐng)公布號(hào) CN106189227B 申請(qǐng)公布日 2019-02-26
分類(lèi)號(hào) C08L79/08;C08K9/10;C08K3/38;C08K3/02;C08G73/10;C08J5/18 分類(lèi) 有機(jī)高分子化合物；其制備或化學(xué)加工；以其為基料的組合物;
發(fā)明人 李曉敏;梅軍;黃渝鴻;唐昶宇;袁萍;陳四龍;姚曾 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 成都正威新材料研發(fā)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 四川力久律師事務(wù)所 代理人 王蕓;韓洋
地址 610200 四川省成都市雙流縣銀河路596號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種含硼聚酰亞胺，它含有0.001~50wt%的硼元素；所述的硼元素以：?jiǎn)钨|(zhì)硼、碳化硼、氮化硼中的一種或幾種的形式存在于聚酰亞胺薄膜中；所述的硼元素是含硼粉體，粉末均勻分散到聚酰亞胺當(dāng)中；所述的含硼粉體為微米級(jí)粉體、納米級(jí)粉體或微米納米級(jí)配型粉體。本發(fā)明還提供一種耐高溫抗中子輻照型含硼聚酰亞胺復(fù)合薄膜的制備方法。本發(fā)明通過(guò)對(duì)含硼功能粉體的表面改性、聚酰胺酸分子量控制、復(fù)合工藝控制及熱亞胺化工藝條件優(yōu)化等過(guò)程，制備出一系列耐高溫抗中子輻照的含硼聚酰亞胺復(fù)合薄膜。所制備的含硼聚酰亞胺復(fù)合薄膜具有較高的表面平整均一性，且耐折性?xún)?yōu)良，表現(xiàn)出優(yōu)異的綜合性能。