一種雙面對準的曝光系統(tǒng)
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201710032482.2 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN106647188B | 公開（公告）日 | 2017-05-10 |
| 申請公布號 | CN106647188B | 申請公布日 | 2017-05-10 |
| 分類號 | G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 傅志偉 | 申請（專利權）人 | 江蘇影速科技有限公司 |
| 代理機構 | 哈爾濱市陽光惠遠知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人 | 江蘇影速集成電路裝備股份有限公司 |
| 地址 | 221000江蘇省徐州市邳州市恒山路西側(cè) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種雙面對準的曝光系統(tǒng)，屬于直寫曝光機技術領域。本發(fā)明的雙面對準的曝光系統(tǒng)包括樣品承載裝置和分別位于樣品承載裝置兩側(cè)的對位裝置和曝光裝置，本發(fā)明提供的雙面對位曝光方法包括放板、標記、翻板、定位和曝光等步驟；實現(xiàn)了對半導體、PCB板等產(chǎn)品雙面曝光圖像精確對位，在定位過程中，使用已有圖形中形狀作為標記圖形或使用添加標記圖形作為定位用的標記，不會對板造成永久性的破壞；設備和方法簡單，不需要額外添加用于打印或曝光標記圖形的設備，節(jié)約成本。?? |
