一種硅片堿腐蝕工藝及其應(yīng)用
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201811393404.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN111211049A | 公開(kāi)(公告)日 | 2020-05-29 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111211049A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-05-29 |
| 分類(lèi)號(hào) | H01L21/306;H01L31/0236;B81C1/00;H01M8/0258 | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 胡浩洋;朱景兵 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 上海尚理投資有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 200020 上海市黃浦區(qū)皋蘭路27號(hào)底層?xùn)| | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種硅片堿腐蝕工藝及其應(yīng)用,采用可與水發(fā)生反應(yīng)且生成翻新堿的金屬氧化物,且翻新堿可與SiO32?發(fā)生反應(yīng)生成可采用分離方法去除的不溶于水的硅酸鹽,用于實(shí)現(xiàn)對(duì)堿性水溶液的翻新,通過(guò)翻新使得堿性水溶液的堿濃度維持不低于其預(yù)設(shè)最低值的狀態(tài)或延長(zhǎng)其維持不低于堿濃度的預(yù)設(shè)最低值的時(shí)間;且同時(shí)通過(guò)翻新實(shí)現(xiàn)將堿性水溶液的SiO32?反應(yīng)轉(zhuǎn)換為不溶于水的硅酸鹽,使得SiO32?的濃度減少;本發(fā)明能夠明顯改善長(zhǎng)時(shí)間處于強(qiáng)堿性溶液的操作環(huán)境、減少?gòu)U液的產(chǎn)生,進(jìn)而顯著地降低了工藝的物料和環(huán)境成本、且明顯改善了工藝操作環(huán)境;同時(shí)可以明顯提升本發(fā)明硅片堿腐蝕的工藝質(zhì)量,而且可以有效減少產(chǎn)線的停機(jī)時(shí)間,提高生產(chǎn)能力和生產(chǎn)效率。 |





