濺射靶材及用該濺射靶材制作的CIGS基薄膜太陽(yáng)能電池
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201510370003.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN105047738B | 公開(公告)日 | 2018-02-09 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN105047738B | 申請(qǐng)公布日 | 2018-02-09 |
| 分類號(hào) | H01L31/0336;H01L31/04 | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 李藝明;鄧國(guó)云 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 廈門神科太陽(yáng)能有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 361009 福建省廈門市火炬高新區(qū)創(chuàng)業(yè)園宏業(yè)樓104室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種濺射靶材及用該濺射靶材制作的CIGS基薄膜太陽(yáng)能電池,通過在硫化鋅材料中摻入一定量的B、Al、Ga、In元素來制作硫化鋅濺射靶材,并用該硫化鋅濺射靶來制作無(wú)鎘的薄膜太陽(yáng)能電池,本發(fā)明的硫化鋅濺射靶材可使用DC濺射沉積或AC濺射沉積,可避免使用復(fù)雜的RF濺射設(shè)備沉積硫化鋅膜層,可降低薄膜電池的制造成本。 |





