一種優(yōu)化的化學(xué)氣相沉積工藝
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201911375201.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN111020536B | 公開（公告）日 | 2022-05-24 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111020536B | 申請(qǐng)公布日 | 2022-05-24 |
| 分類號(hào) | C23C16/52（2006.01）I;G05D27/02（2006.01）I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 彭雨晴;信吉平 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 清華大學(xué)無錫應(yīng)用技術(shù)研究院 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 無錫盛陽專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 214000江蘇省無錫市濱湖區(qū)建筑西路777號(hào)A3幢13樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種優(yōu)化的化學(xué)氣相沉積工藝，包括以下步驟：（1）將沉積爐的爐內(nèi)空間劃分成多個(gè)控制空間；（2）采集各控制空間內(nèi)的實(shí)際溫度值和實(shí)際流量值；（3）計(jì)算出實(shí)際與理論的差值；（4）根據(jù)差值進(jìn)行溫度補(bǔ)償和流量補(bǔ)償。本發(fā)明利用數(shù)字孿生技術(shù)，對(duì)沉積爐的內(nèi)腔分空間建造數(shù)字孿生模型，達(dá)到生產(chǎn)時(shí)，分空間實(shí)時(shí)監(jiān)控沉積爐內(nèi)溫度和影響沉積的物質(zhì)的流量，實(shí)現(xiàn)整個(gè)溫度場(chǎng)及流體場(chǎng)控制過程的可視化，通過對(duì)采集的實(shí)際溫度和影響沉積的物質(zhì)的實(shí)際流量與理論數(shù)據(jù)融合，得到誤差補(bǔ)償結(jié)果，以此分空間進(jìn)行溫度和流量補(bǔ)償，從而實(shí)現(xiàn)了保證沉積爐內(nèi)溫度場(chǎng)和流體場(chǎng)分布均勻。 |
