一種吡非尼酮光降解雜質及其制備方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202011448041.9 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN112645862A | 公開(公告)日 | 2021-04-13 |
| 申請公布號 | CN112645862A | 申請公布日 | 2021-04-13 |
| 分類號 | C07D205/12;G01N1/28 | 分類 | 有機化學〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 施路;許加龍;胡豐錦 | 申請(專利權)人 | 南京華威醫(yī)藥科技集團有限公司 |
| 代理機構 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 210046 江蘇省南京市棲霞區(qū)緯地路9號C3棟 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種吡非尼酮光降解雜質6?甲基?2苯基?2?氮雜雙環(huán)[2.2.0]己?5?烯?3?酮及其制備方法。步驟簡單,反應條件溫和,產(chǎn)物收率高且純度較高。本發(fā)明為吡非尼酮原料藥及相關制劑的降解雜質檢測提供了新的對照品,更有利于工藝研究和質量控制,進而控制吡非尼酮的產(chǎn)品質量,具有重大的意義和實用價值。 |





