一種新型褪膜方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201811094425.8 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN109152222A | 公開(公告)日 | 2019-01-04 |
| 申請公布號 | CN109152222A | 申請公布日 | 2019-01-04 |
| 分類號 | H05K3/00;G03F7/42 | 分類 | 其他類目不包含的電技術(shù); |
| 發(fā)明人 | 單春光;鄒冠生 | 申請(專利權(quán))人 | 中山市瑞寶電子科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 廈門市新華專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 葉玉鳳;徐勛夫 |
| 地址 | 528400 廣東省中山市南朗鎮(zhèn)大車工業(yè)區(qū)東椏工業(yè)園B幢3樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開一種新型褪膜方法,包括以下步驟:第1步,將表面覆蓋有干膜的陶瓷基板浸泡到濃度為3?5%的強(qiáng)堿性溶液中,浸泡溫度控制在55±5℃的范圍內(nèi),軟化干膜;第2步,將陶瓷基板從強(qiáng)堿性溶液中取出用清水洗凈;第3步,將褪膜未凈的陶瓷基板浸泡到濃度為90%以上的H2SO4溶液中,浸泡溫度為常溫,使干膜脫落退除;第4步,將陶瓷基板從H2SO4溶液中取出再次用清水洗凈。這4個(gè)步驟,低濃度的強(qiáng)堿性溶液主要作用是軟化干膜,后續(xù)再用濃硫酸褪膜,褪膜率能達(dá)到100%,并且步驟簡單,成本低。 |





