一種提升垂直腔面發(fā)射激光器濕法氧化工藝均勻性的方法及裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010002979.1 申請日 -
公開（公告）號 CN111162452A 公開（公告）日 2020-05-15
申請公布號 CN111162452A 申請公布日 2020-05-15
分類號 H01S5/183;F27B17/00 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 羅玉輝;程元紅;何兵 申請（專利權(quán)）人 新亮智能技術(shù)（中山）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州海心聯(lián)合專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 深亮智能技術(shù)（中山）有限公司
地址 528400 廣東省中山市火炬開發(fā)區(qū)東鎮(zhèn)東一路32號3幢廠房一層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種提升垂直腔面發(fā)射激光器濕法氧化工藝均勻性的方法，將垂直腔面發(fā)射激光器放置加熱爐中，啟動加熱爐加熱至反應(yīng)溫度，然后將水蒸汽以恒定流量由載氣帶入加熱爐，水蒸汽和垂直腔面發(fā)射激光器的外延片中暴露的高鋁組分化合物發(fā)生反應(yīng)，形成氧化物限制結(jié)構(gòu)，即氧化鋁絕緣層。本發(fā)明還提供了提升垂直腔面發(fā)射激光器濕法氧化工藝均勻性的裝置。本發(fā)明中的VCSEL濕法氧化用于反應(yīng)的水蒸汽由恒定水流量的蒸汽發(fā)生裝置產(chǎn)生，水蒸汽流量穩(wěn)定且恒定，能夠穩(wěn)定控制氧化深度，提高氧化的均勻性和重復(fù)性，解決了現(xiàn)有方法中氮氣攜帶水蒸汽的量不穩(wěn)定導(dǎo)致氧化深度穩(wěn)定性不易控制的問題。